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第2题
Goering研究了类似下面结构化合物的溶剂解反应。他进行了反应物立体生成中心的外消旋和反应物中同位素标记的
氧在醚和羰基之间发生紊乱的两个实验。在溶剂解过程中同位素标记的紊乱比立体化学的紊乱要快。测得的同位素紊乱的速率常数是溶剂解机理的哪个步骤的速率常数？数学上这一同位素紊乱的速率和这一特定步骤的速率常数关系如何？
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第7题
已知8位二进制数X、Y分别存在内RAM One、Two单元中，试分别编程，按下列各式计算，并将结果（＜256)存入内RAM Thre
已知8位二进制数X、Y分别存在内RAM One、Two单元中，试分别编程，按下列各式计算，并将结果(＜256)存入内RAM Three单元。
第9题
已知某二进制数（＜20)存在内RAM 50H单元中，阅读下列程序，说明其功能。 MOV R0,#50H ;R0=50H MOV A,@R0 ;
已知某二进制数(＜20)存在内RAM 50H单元中，阅读下列程序，说明其功能。
MOV R0,#50H ;R0=50H
MOV A,@R0 ;A=(50H)
RL A ;[A=(50H)]×2
MOV R1,A ;R1=[A=(50H)]×2
RL A ;[A=(50H)]×2×2
RL A ;[A=(50H)]×2×2×2
ADD A,R1 ;A=10×(50H)
MOV @R0,A ;(50H)←(50H)×10
