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[单选题]
刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（)覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。
A.二氧化硅
B.氮化硅
C. 光刻胶
D.去离子水
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把折射率n=1.40的透明薄膜，放在迈克尔孙干涉仪的一个光臂上，如图所示。已知光源是波长λ=5893A的钠光；测得放入薄膜时使条纹移过的数目△k=7.0条。求薄膜的厚度。
A.在沉积温度下，反应物具有足够高的蒸气压，并能以适当的速度被引入反应室
B.反应产物除了形成固态薄膜物质外，都必须是挥发性的
C.沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压，以保证在反应中能保持在受热的基体上，不会挥发
D.作为涂层的分解或还原产物在作业温度下必须是易挥发的固相物质
中会发生剧烈变化，从而导致金属锂的锂枝晶的析出。锂枝晶不仅会降低电池的容量，还可能造成电池内短路，诱发起火和爆炸等安全事故。如果将一层厚度仅约1微米的橡皮泥涂在锂金属表面，可以近乎完美的保护锂金属电极。在正常的充放电过程中，锂金属在电极表面均匀沉积，对橡皮泥的作用力很小。软软的橡皮泥可以很好地适应锂金属的形状和体积变化，牢牢地贴在锂的表面，起到保护涂层的作用。一旦在某些区域有锂枝晶“刺出”，橡皮泥涂层就会迅速变硬，从而有效阻挡锂枝晶的生长。
这段文字主要介绍的是：
A. 锂电池发展的历史
B. 锂电池容量的影响因素
C. 橡皮泥涂层提高锂电池性能的机理
D. 锂枝晶的危害及抑制方法
