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[主观题]
在图3-6所示电路中,已知P沟道增强型MOSFET的,VGS(th)=-1V,并忽略沟道长度调制效应。
在图3-6所示电路中,已知P沟道增强型MOSFET的,VGS(th)=-1V,并忽略沟道长度调制效应。
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=0.04(VGS-VGS(th))2mA
|VGS|=|VDD|-IDRS=10-0.04(VGS-VGS(th))2RSV
当RS=0时,|VGS|=10V>|VGS(th)|.工作在饱和区。
当RS增加时,|VGS|减小。
当RS→∞时,|VGS|→|VGS(th)|,但仍满足|VGS|≥|VGS(th)|的条件。如果|VGS|<|VGS(th)|,将会由于ID=0,使|VGS|=|VDD|,显然不合理。
综上所述,对于任意RS值,场效应管都可工作在饱和区。$当RS=12.5kΩ时,VGS=2.8V或VGS=-4.36V,取VGS=-4.36V。则VO=VDD-VGS=-10V-(-4.36V)=-5.64V。
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