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题目内容 (请给出正确答案)
[主观题]

布图设计专有权的取得方式有()。

布图设计专有权的取得方式有()。

A、登记取得

B、创作或使用取得

C、申请取得

D、注册在先取得

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第1题
集成电路布图设计专有权权项有()。

A.商业运用权、签名权

B.复制权、商业运用权

C.发行权、转让权

D.签名权、发行权

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第2题
我国关于集成电路布图设计专有权的保护期限为( )。

A.5年

B.8年

C.10年

D.15年

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第3题
在我国,布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生,未经登记的布图设计不受《集成电路布图设计保护条例》保护。()
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第4题
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入()的,依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。

A.工业生产

B.批量生产

C.商业利用

D.销售

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第5题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定,下列表述中正确的表述是:()

A. 外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。

B. 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。

C. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。

D. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。

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第6题
在我国,布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。()
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第7题
根据《民法总则》的规定,下列属于知识产权的权利客体的有()。

A.商标

B.地理标志

C.发明、实用新型、外观设计

D.集成电路布图设计

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第8题
()设计产品,指的是集成电路生产过程中的布图设计这一中间产品。

A.电子芯片

B.水晶导管

C.集成电路布图

D.以上都不是

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第9题
集成电路布图设计权是产品持有人对其布图设计进行复制和商业利用的专有权利。()
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第10题
集成电路布图设计权的主体是依法对布图设计享有专有校的自然入、法人或者其他组织。()
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